廢氣處理設備有哪些分類？

廢氣處理設備，主要是指運用（yòng）不同（tóng）工（gōng）藝技術，通過回收（shōu）或去除、減（jiǎn）少（shǎo）排放（fàng）尾氣的有（yǒu）害成分，達到保護環境、淨化空氣的一種環保設備，讓中文字幕亚洲一区二区三区的環境不受到汙（wū）染。

一、吸收設備

吸收法采用低揮發或（huò）不揮（huī）發性溶劑對VOCs進行吸收，再利用（yòng）VOCs和吸收劑物理性質的差異進（jìn）行分離。

含VOCs的氣體自吸收塔底部進入塔內，在上升過程中與來自塔頂的吸收劑逆流接觸，淨化後的氣體由塔頂排出。吸收了（le）VOCs的吸收劑通過熱交換器後，進入汽提塔頂部，在溫度高於吸收溫度或壓力（lì）低於（yú）吸收壓力的條件下解吸。解吸後的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝後回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣（qì）液分離器後以較純的VOCs氣體（tǐ）離開（kāi）汽提塔，被回收利用。該工藝適（shì）合（hé）於（yú）VOCs濃度較高（gāo）、溫度較低的氣體淨化，其他情況下需要作相（xiàng）應的工藝調整。

二（èr）、吸附設備

在用多孔性固體物質（zhì）處理流體混合物時，流體中（zhōng）的某一組分或某（mǒu）些（xiē）組分（fèn）可被吸表麵並（bìng）濃集其上，此現象稱（chēng）為吸附。吸附處理廢（fèi）氣時，吸附的對象是氣態汙染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質（zhì），多孔固體物質稱為吸附劑。

固體表麵吸附了吸附質後，一部被吸附（fù）的吸附質可從（cóng）吸附（fù）劑表麵脫離，此現附。而當吸附進行一段時間後，由於表麵吸附質的濃集，使其吸附能力明顯下降而吸附淨化的要求，此時需要采用一定的措施（shī）使吸附劑上已（yǐ）吸（xī）附的吸附質脫附，以協的吸附能（néng）力，這個過程稱為吸附劑（jì）的再生。因此在實際吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸（xī）附的循環過程，達到除去廢氣中汙染物質（zhì）並（bìng）回收廢氣中（zhōng）有（yǒu）用組分。

三（sān）、淨化設備

燃燒法用於處理高（gāo）濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過（guò）量（liàng）的空氣使這些雜質燃燒，大多數生成二氧化碳（tàn）和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機（jī）化合物時，燃燒生成產物中HCl或SO2，需要對燃燒後氣體進一步處理。

四、治理設備

等離子體就是（shì）處於電離狀（zhuàng）態的（de）氣體，其英文名稱（chēng）是plasma，它是由美國科學 muir，於1927年在研究低氣（qì）壓下汞蒸氣中放電現（xiàn）象時命（mìng）名的。等離子體由（yóu）大（dà）量的子、中性原子、激發態原子、光（guāng）子和自由（yóu）基等組成，但電子和正離子的電（diàn）荷數必須（xū）體表現出電（diàn）中性（xìng），這就是“等離子體”的含義。等離（lí）子體具有導電和受電磁（cí）影響（xiǎng）的許多方麵與固體、液體和氣體不同（tóng），因此又有人把（bǎ）它稱為物（wù）質的（de）第四種狀態。根據狀態、溫度和離子密度，等離子（zǐ）體通常可以分為（wéi）高溫等離子體和低溫等離子體（包（bāo）子體和冷等離子體）。其中高（gāo）溫等離子體的電離度（dù）接近1，各（gè）種粒子溫度（dù）幾乎相同係處（chù）於熱力學（xué）平衡（héng）狀態（tài），它主要應用在受控熱核反應研究方麵。而低溫等離子體則學非平衡狀態，各種粒子溫度並不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒（lì）子的（de）溫度卻可低到300～500K。一般（bān）氣體放電子體屬於低溫等（děng）離子體。

截至2013年，對低溫等離子體（tǐ）的作用（yòng）機理研究認為是粒子非彈性碰撞的結果。低溫等離富含電子、離子（zǐ）、自由基和激（jī）發態分子，其（qí）中高能電子（zǐ）與氣體分子（zǐ）（原子）發生撞，將（jiāng）能量轉換成基態（tài）分子（原子（zǐ））的內（nèi）能，發生激（jī）發（fā）、離解和電離等一係列過秸處於活化狀（zhuàng）態。一方麵打開了氣體分子鍵，生成一些單分子和固體微（wēi）粒；另一力生．OH、H2O2．等自由基和氧化性極強的O3，在這一過程中高能電子起決定性作用，離子的熱運動隻有副作用。常壓下，氣體放電產生的高度非（fēi）平（píng）衡等離子體中電子溫層（céng）氏度）遠高於氣（qì）體溫度（室溫100℃左右）。在非平衡等離子體（tǐ）中可（kě）能發生各種類型的化學反應（yīng），主要決（jué）定於電子的平均能量、電子密（mì）度、氣體溫度、有害氣體分子濃（nóng）度和≥氣體成分。這為一些需要（yào）很大活化能的反應如大氣中難降解汙染物的去除（chú）提供了另外也可以對（duì）低濃度、高流速、大風量的（de）含揮發性有（yǒu）機汙（wū）染物和含硫類汙染物等進行處理。

常見的產生等離子體的方法是氣（qì）體放電，所謂氣體放電是指通（tōng）過某種機製使一電子從氣體原子或分子中電離出來，形（xíng）成（chéng）的氣體媒質稱為電離氣體（tǐ），如果電（diàn）離氣由外電場產生並形（xíng）成傳導電流，這種現象稱為氣體放電。根據放電產生的機理、氣體的壓j源（yuán）性質以及電極的幾何形狀、氣體放（fàng）電等離子體主要分為以下幾種形式（shì）：①輝光放電；③介質阻擋放電；④射頻放電；⑤微波放電。無論哪一種形式產生的等（děng）離子體，都需要高壓放電。容易打火產生危險。由於對諸如（rú）氣態汙染物的治理，一（yī）般要求在常壓下進行。

五、光催化和生物淨化設備

光催化（huà）是（shì）常溫深度反應技術。光催化氧（yǎng）化可在室溫（wēn）下將（jiāng）水、空氣和（hé）土壤中有機汙染物完全氧化成無毒無害的產（chǎn）物，而傳統的（de）高溫焚燒技術則需（xū）要在極高的溫度下才可將汙染物摧毀，即（jí）使用常規的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。

從理論上講，隻要半（bàn）導體（tǐ）吸收的光能不小於其帶隙能，就足以激發產生電子和（hé）空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化（huà）合物光催化（huà）劑多（duō）為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小（xiǎo），跟太陽光（guāng）譜中的近（jìn）紫外光段（duàn）有較（jiào）好的匹配性能，可以很好地利（lì）用自然光能，但它容易（yì）發生光腐蝕（shí），使用壽命有（yǒu）限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是最廣泛使用和研究的單一化（huà）合物光（guāng）催化（huà）劑。